化学抛光流痕抑制剂是
在化学抛光槽内的一种液体助剂,采用此助剂可使磷酸和硫酸充分敖合，使酸液比重变小，工件出液面时更快更均匀地流入槽内，以起到节约化抛药水及解决流痕及冲花问题。
优点
缩短化抛时间
减少药液随工件带出的浪费
解决化学抛光流痕问题
解决化学抛光花面问题